25 мая 2015

На выставочно- технологическом форуме SMTA компания ZESTRON продемонстрирует pH-нейтральные отмывочные жидкости

Компания ZESTRON, мировой производитель прецизионных средств для отмывки, услуг и решений по обучению в сфере производства электроники, представит последнюю разработку в области pH-нейтральных отмывочных средств на выставочно-технологическом форуме SMTA в Мичигане и Орегоне.

ZESTRON занимается разработкой инновационных pH-нейтральных отмывочных жидкостей с 2009 г. В дополнение к VIGON® N 600, разработанному для удаления флюса с печатных плат, последние разработки включают в себя VIGON® PE 180 и HYDRON® SE 220, созданные для применения в области питающей электроники и удаления флюса с полупроводников.

VIGON® PE 180, основанная на технологии MPC® (микрофазная очистка), представляет собой отмывочную жидкость на водной основе, разработанную для использования в оборудовании с технологией струи в воздухе. Она удаляет остатки флюса с выводных рамок, дискретных схем, модулей питания и светодиодных индикаторов питания после крепления кристалла припоем и/или пайки с термопастой. Данная отмывочная жидкость разработана для удаления оксидной пленки с медных поверхностей при подготовке к последующим процессам обработки.

HYDRON® SE 220 - это однокомпонентная отмывочная жидкость на водной основе, специально разработанная для использования в процессах с погружением и ультразвукового воздействия. Она позволяет удалять остатки флюса с широкого диапазона полупроводниковой электроники. Жидкость легко смывается и обеспечивает оптимальные характеристики поверхности для последующих процессов обработки, таких как присоединение проволочных выводов и прессование, гарантируя при этом превосходную совместимость материалов.