11 ноября 2014

Компания EVG представляет новую технологию наноимпринтной литографии

SmartNIL™ — технология мягкой наноимпринтной литографии (НИЛ) на большой площади для массового производства — обеспечивает непревзойденные показатели производительности и стоимости владения

Компания EVG, ведущий поставщик оборудования для сварки пластин и литографии в области МЭМС, нанотехнологий и полупроводниковых приборов, представила технологию наноимпринтной литографии на большой площади SmartNIL™. Технология SmartNIL™ доступна на всех платформах EVG, предназначенных для НИЛ, включая установки совмещения, а также системы EVG 720 и совершенно новую EVG 7200. Данная технология представляет собой решение для малозатратного массового производства таких устройств, как:

  • устройства фотоники: светодиоды, лазеры и солнечные батареи;
  • микромассивы (ДНК-микрочипы) и наноустройства для медицинских нужд и биоинженерии;
  • носители информации, включая устройства энергонезависимой памяти нового поколения.

«Технология SmartNIL™ основана на более чем 15-летнем опыте компании EVG в данной области, полученном в процессе формирования крупнейшей базы систем НИЛ, установленных по всему миру. SmartNIL™ — это единственная на сегодня технология НИЛ, которая используется при производстве устройств на пластинах диаметром вплоть до 200 мм. Наша новая система EVG7200, обеспечивающая разрешение до 20 нм при массовом производстве, дает возможность применять мягкое штампование и возможности технологии SmartNIL™ применительно к большим подложкам с малыми размерами элементов. Это позволяет нашим клиентам достигать еще меньших показателей затрат и открывает им глаза на истинный потенциал данной технологии», — заявил Пол Линдер, исполнительный директор компании EVG.

Преимущества технологии SmartNIL™

  • Устройства фотоники, такие как солнечные батареи, светодиоды, лазерные диоды и оптические сенсоры, основываются на работе со светом на наноуровне, что требует использования наноразмерных элементов (фотонных кристаллов, фазосдвиговых структур, волноводов, решеток) для достижения оптимальной производительности
  • В области биоинженерии требуется использование наноразмерных технологий в связи с тем, что бóльшая часть биологических процессов инициируется именно на наноуровне
  • Традиционные методы литографии лазерным лучом, применяемые в этих двух областях с целью получения наноразмерных элементов, имеют либо крайне низкую производительность и, таким образом, не могут быть использованы в массовом производстве, либо имеют высокую производительность при невероятно высокой стоимости (например, степперы)
  • Некоторые устройства в области фотоники и биоинженерии могут производиться с гораздо меньшими затратами путем создания трехмерных структур и структур с переменной высотой за один шаг, что возможно путем применения УФ-НИЛ с мягким штампом
  • SmartNIL™ в совокупности с системой EVG720 для 150 мм пластин, которая используется на многочисленных фабах ведущих производителей, и новейшая система EVG7200 обеспечивают оптимальное сочетание высокого разрешения, высокой точности совмещения и малых затрат на эксплуатацию оборудования в области массового производства

Ключевые особенности технологии

  • Большая площадь литографии (до 200 мм)
  • Самое производительное полноразмерное решение УФ НИЛ для массового производства (до 40 пластин диаметром 200 мм в час)
  • Встроенная технология формирования мягких штампов, уменьшающая занимаемую площадь и обеспечивающая быстрый перенос рисунка (менее 10 мин по сравнению с прочими технологиями требующими не менее 24 часов)
  • Оптимизированные параметры снятия штампа, увеличивающие срок службы штампа
  • Самоочистка, уменьшающая количество сторонних частиц и обеспечивающая высокий выход годных изделий
  • Технологический процесс, который происходит при комнатной температуре, что позволяет избежать проблемы несоответствия КТР и искажения структур при высокоточном совмещении